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光粒网 （整合半导体激光信息的行业网站）
光粒网是由武汉光粒网络科技有限公司所创办的整合半导体激光信息的行业网站。光粒网专
软烤 （半导体相关）
软烤(Softbake):其使用时机是在上完光阻后，主要目的是为了将光阻中的溶剂
施体 （半导体相关）
Donor施体我们将使原本本征的半导体产生多余电子的杂质，称为施体。如掺入p的情
磊晶 （半导体相关）
Epitaxy磊晶外延附生：一种矿物的结晶附于另一矿物结晶表面的生长，这样两种矿
蒸镀 （半导体相关）
蒸镀将我们的蒸镀源放在坩埚里加热，当温度升高到接近蒸镀源的熔点附近。这时，原本处
闸极 （半导体相关）
闸极
N井 （半导体相关）
在半导体行业里，一般在P-Sub上植入P以形成N-well,以便为后期形成PMO
旋干 （半导体相关）
通过高速旋转产生的离心力把硅片表面水滴驱除
底材 （半导体相关）
一般而言半导体中提及的Substrate就是指Wafer
辅抽泵 （半导体相关）
BackingPump辅抽泵在高真空系统中，要想很快建立我们所需的高真空，单纯靠
阻障层 （半导体相关）
BarrierLayer阻障层为了防止铝合金与硅的的接触界面发生尖峰（spiki
真空室 （半导体相关）
Chamber真空室，反应室专指一密闭的空间，而有特殊的用途、诸如抽真空，气体反
掺杂源 （半导体相关）
掺杂源我们将通过扩散的方法进行掺杂的物资叫掺杂源，例如将Poly里掺入P的POC
传送室 （半导体相关）
传送室用来隔绝反应室与外界大气直接接触，以确保反应室内的洁净，降低反应室受污染的
间隙壁 （半导体相关）
Spacer间隙壁隔离闸极与其它两个MOS电极，利用它与闸极所形成的结构，来进行
铁氟隆 （半导体相关）
Teflon铁氟隆聚四氟乙烯，一种耐酸耐腐蚀耐高温的材料，我们使用的某些cass
硅晶圆 （半导体相关）
硅晶圆材料（Wafer）是半导体晶圆厂（Fab）内用来生产硅芯片的材料，依面积大
电荷陷入 （半导体相关）
无特定分布位置，主要是因为MOS操作时产生的电子或电洞被氧化层内的杂质或不饱和键
缺点密度 （半导体相关）
DefectDensity缺点密度'缺点密度'系指芯片单位面积上(如每平方公分，
法拉第杯 （半导体相关）
法拉第杯（FaradayCup），是离子植入机中在植入前用来测量离子束电流的装置
四点测针 （半导体相关）
四点测针（FourPointProbe）是量测芯片片阻值(SheetResist
气相沉积 （半导体相关）
气相沉积（VaporPhaseDeposition），一种薄膜沉积的方法，在气态
掺入杂质 （半导体相关）
为使组件运作，芯片必须掺以杂质（)Doping），一般常用的有：预置:在炉管内通
弧光反应室 （半导体相关）
ArcChamber弧光反应室弧光反应室,事实上就是一个直流式的电浆产生器。因为
直流溅镀法 （半导体相关）
DCSputtering直流溅镀法脱离电浆的带正电荷离子，在暗区的电场的加速下，
椭圆测厚仪 （半导体相关）
椭圆测厚仪将已知波长的入射光分成线性偏极或圆偏极，照射2003-7-17在待射芯
轻掺杂集极 （半导体相关）
轻掺杂集极简称LDD，可以防止热电子效应(HotElectron/Carrier
区域氧化法 （半导体相关）
区域氧化法LocalOxidationofSilicon即区域氧化，简称LOCO
质流控制器 （半导体相关）
质流控制器简称MFC,是直接测量气体流量的一种装置，常用在流动气体的控制上。主要
欧姆式接触 （半导体相关）
欧姆式接触欧姆接触（OhmicContact）是指金属与半导体的接触，而其接触面
短通道效应 （半导体相关）
短通道效应当MOS组件愈小，信道的长度将随之缩短，电晶体的操作速度将加快，但是，
旋制氧化硅 （半导体相关）
旋制氧化硅(SpinonGlass)是利用旋制芯片，将含有硅化物的溶液均匀地平涂
硼磷硅玻璃 （半导体相关）
BPSG:为硼磷硅玻璃，含有B,P元素的SiO2,加入B,P可以降低Flow温度
闸极氧化层 （半导体相关）
闸极氧化层
热电子效应 （半导体相关）
在VLSI的时代，ShortChannelDevice势在必行，而目前一般Cir
离子植入机 （半导体相关）
离子植入机
金属半导体 （半导体相关）
构成IC的晶体管结缸可分为两型一双载子型(bipolar)和MOS(Metal-
原始氧化层 （半导体相关）
当我们把硅芯片暴露在含氧的环境里时，例如氧气或水，芯片表面的硅原子便会进行如下（
旋涂式玻璃 （半导体相关）
旋制氧化硅(SpinonGlass)是利用旋制芯片，将含有硅化物的溶液均匀地平涂
超音波清洗 （半导体相关）
超音波清洗（UltrasonicCleaning），通过超音波原理进行的清洗。超