EUV | 极紫外光刻
EUV (半导体光刻技术)
EUV,即极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术;
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1965年Intel公司创始人之一戈登·摩尔曾提出著名的摩尔定律:当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。
数十年来这个定律一直有效,可左右它的却不是我们耳熟能详的Intel或AMD等半导体巨头,而是一家外行人并不知名光刻机设备公司
目前全球绝大多数半导体生产厂商都需要排着队向它购买最新型的光刻机才能将自己的制程提高到最先进的水平。
一台最先进的EUV光刻机价格至少1亿欧元,而且还有市无价。
在半导体制程上,中国之所以一直落后于世界先进水平,最主要是因为西方的瓦森纳协定禁止将最先进的光刻机出口到中国。