光刻机
(
半导体设备
)
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
知识树
时光轴
论点集
总题库
阅读模式
领域
提 交
领域内容
词条 知识
》
词条 事件
》
词条 题库
》
词条 断言
》
知识点添加
自定义
提 交
加载更多
加载更多
EMITQD
【商业】
荷兰的ASML半导体设备制造公司为世界最先进的半导体光刻机制造公司,其生产的最先进的光刻机直接决定摩尔定律是否有效。
ASML-荷兰 全球最大的半导体设备制造公司
光刻机-半导体设备
摩尔定律-科技产品
0
添加知识点
加载更多
1
添加子节点
删除节点
添加下方节点
添加上方节点
复制节点代码
粘贴节点
添加知识点
提交审核
重构知识树
知识树 创建页面
知识树 创建说明