金属欠电位沉积

金属欠电位沉积（metal underpotential deposition），理学-化学-分析化学-电化学分析法，金属离子在该金属体相电沉积热力学平衡电势以正的电极电势下，在异种金属表面上发生电化学还原而形成（亚）单原子吸附层的现象。金属欠电势沉积可被解释为在异金属表面上未完全覆盖的沉积原子层的活度小于1所致。其本质是沉积原子与异金属表面原子间强的相互作用导致在异金属上沉积的原子层的电化学势较其在同种金属表面上更低。大量研究表明，仅当功函较小的金属向功函较大的金属表面上沉积时方可能发生欠电势沉积，如Pb2+/Au、Pb2+/Ag及Cu2+/Au等体系中的金属离子可在欠电势下于异种金属基底表面上发生还原吸附。金属发生欠电势沉积的电极电势与其热力学平衡电势之差称为欠电势提前量，通常为几十至几百毫伏，与沉积金属和基底金属的功函之差在很大范围内存在线性关系，反映了二种金属间相互作用的强弱。极少数体系可因强相互作用而形成二至三层沉积层，如Tl2+/Ag体系；对可发生体相合金化的体系，如Cd2+/Au和Sn2+/Au等，欠电势沉积过程可发生二者的合金化，并向金属基底的体相发展。