等离子辅助沉积（plasma assisted deposition），工学-机械工程-〔机械制造工艺与装备〕-〔特种加工工艺与装备〕-高能束加工-激光加工，在离子束辅助沉积和低压反应离子镀基础上发展起来的一种先进的镀膜技术。等离子辅助沉积是制备光学薄膜通常采用的技术，利用离子来改善材料的沉积条件。由于外来离子对凝聚中粒子的动量传递，使得凝聚粒子的移动性增加，得到高的聚集密度，可改善薄膜的光学性能和稳定性。但等离子辅助沉积存在着电离碰撞截面小、气体离化率低、离子束辐照面积小及束流不均匀等问题，无法实现大面积、工业化生产高质量薄膜。20世纪90年代初，德国莱宝公司发展了一种高密度的等离子体源，束流密度最高可达5安培，可在整个基底范围获得均匀的离子辐照，克服了通常离子束镀膜技术的缺陷。和普通离子束辅助沉积不同的是，等离子辅助沉积技术主要运用了等离子体技术，采用了一个高束流密度的等离子源替代考夫曼离子源，最显著的特点是材料粒子的离化，这主要通过电子的碰撞电离来实现。等离子辅助沉积保留了传统技术沉积速率高、面积大的优点，又克服了薄膜结构疏松、性能不稳定的缺陷。