聚焦离子束光刻（focused ion beam lithography），工学-机械工程-机械工程基础-〔机械制造基础〕-加工制造-微纳机电系统-磁致动器，在聚焦离子束技术基础上将原子离化后形成离子束的能量控制在10～200千电子伏特，在工件表面采用直接扫描、掩模曝光或者投影曝光加工微细线条图案，制备微纳器件的工艺。常用的离子束源有气态离子源（氢、氦、氧和氖等离子源）和液态离子源（镓、钯、铍等离子源）。其原理是通过离子束照射抗蚀剂并在其中沉积能量，使抗蚀剂起降解或发生交联反应，形成良溶胶或非溶凝胶，再通过显影，获得溶与非溶的对比图形。随着工艺的不断发展，离子束光刻不再局限于基于光刻胶的曝光，更多地使用直接的图形化技术，如刻蚀或沉积，以及注入或功能化。