磁控溅射镀膜机

磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2011年03月26日启用。1.配装3支Ф2英寸的磁控溅射靶，其中一支可镀铁磁材料。2.磁控溅射靶射频（RF）、直流（DC）兼容。3.每只磁控溅射靶均配备挡板，基片配挡板。4.极限真空：5*10-5Pa；工作背景真空：7*10-4Pa.5.基片尺寸≤Ф4英寸。6.基片可加热至500℃.7.控制系统：PC+PLC全自动控制。