离子束溅射镀膜装置（ion beam sputtering deposition system），工学-机械工程-机械工程基础-机械设计-表面工程-表面工程装备-物理气相沉积技术，通过离子束轰击固体靶材，使溅射的粒子沉积于基材（工件）形成固体薄膜的一种真空镀膜装置，主要由真空系统、离子源、溅射靶材、控制系统等几部分组成。离子束溅射镀膜是指惰性气体或反应气体经离子源离解形成离子，并经引出、加速、聚焦后形成离子束，以一定角度轰击靶材，使得靶材表面层原子脱离表面形成溅射粒子，并沉积于基材表面形成薄膜的过程，而离子束溅射镀膜装置是实现这一过程的系统或设备。