纳米印刷光刻技术

纳米印刷光刻技术（nano printing），工学-材料科学与工程-纳米材料-纳米技术，利用印刷压模的原理转印出具有纳米凹凸图形的技术。纳米印刷光刻技术克服了传统光学曝光法因光刻物镜的数值孔径和曝光波长的工艺极限带来的分辨率难题，不需要传统光刻所需的结构复杂、价格昂贵的成像曝光系统，具有工艺过程简单、成本相对较低的特点，与光学光刻技术和电子束光刻技术相比又具有生产效率高、可批量生产的优点。纳米印刷光刻设备主要由液压装置、模板、基底、热平板、隔热板、安全感测器等部分构成。纳米印刷光刻技术工艺可通过以下两种方式实现：①纳米模板的制作、压印、基底与模板的分离、残留聚合物的去除等。将模板与基底分开以后，用反应离子刻蚀将残余的聚合物去掉，模板上的纳米图案完整地转移到硅基底表面的聚合物上，再结合刻蚀技术把图形转移到硅基底上。②在金属基底上直接压印制作纳米结构，工艺过程更为简单，但必须用非常坚硬的材料作模板，否则模板会发生变形或断裂，影响纳米器件的加工，通常选用碳化硅材料作模板。碳化硅材料非常坚硬，断裂或变形的可能性很小，而且在重复压印的过程中模板不会受到污染。