自顶向下制造（top down manufacturing），工学-机械工程-机械工程基础-〔机械制造基础〕-加工制造-微纳机电系统，从宏观对象出发，对宏观材料或原料进行加工，完成微纳米尺度结构特征的制造。与自下而上制造相对。又称自上而下制造、自上而下方法等。自顶向下制造由传统的微纳加工技术发展而来，是微机电系统（MEMS）制造的基本方法之一。自顶向下制造主要包括光刻、切割、刻蚀等技术。自顶向下制造的基础性原理是在微纳米结构的制备中，将单个构筑单元“放置”到有特定图形的位置上，形成有序的二维或三维结构，因此能够在基底表面直接进行“图形”设计。具体为采用光刻、刻蚀等微细加工方法，将大的材料割小，形成结构或器件，并与电路集成，实现系统微型化。传统光刻技术是自顶向下制造中应用最广泛的方法，成本低、产量高、可靠性高。但其加工尺寸精度受光波衍射效应的限制，且存在只能在平面基底上进行加工以及加工极限精度等因素的限制，将在不远的将来到达其技术终点。纳米刻印技术是随着扫描探针显微镜技术的不断进步与发展，以扫描隧道显微镜（STM）和原子力显微镜（AFM）为基础的新型自顶向下制造技术。