旋转涂布；将要涂布的稀溶液放在平面底板上，装有底板的旋转机开始由慢到快旋转，用离心力将底板上的溶液涂布成厚度从微米到纳米的薄膜。这样的工艺过程，称为旋转涂布。它是微电子学工业用来生产光刻和光致抗蚀薄膜的最常用方法。旋转涂布：将要涂布的稀溶液放在平面底板上，放有底板的旋转机开始由慢到快旋转，由于离心力将底板上的稀溶液涂布成薄膜；这样的工艺过程，称为旋转涂布。用旋转涂布出来的薄膜厚度，可以达到从微米致纳米范围。这是在平面底板上制造薄和均匀聚合物薄膜和微电子学工业生产薄膜的通用方法。如以溶胶-凝胶为前体的氧化层微细加工；广泛用来涂布光刻和光致抗蚀薄膜等。