等离子体化学气相沉积

（机械工程）
等离子体化学气相沉积（plasma chemistry vapor deposition，PCVD），机械工程名词，通过放电产生的等离子体促进气相化学反应，在低温下，在基片上制取膜层的一种方法。
知识树
时光轴
论点集
总题库
领域
机械工程
词条相关
词条 主页 》
词条 科普 》
词条 事件 》
词条 题库 》
词条 知识 》