光弹性应力分析法(photoelastic stress analysis),理学-力学-﹝实验力学﹞-实验固体力学-﹝光测量技术﹞-光弹性法-光弹性应力分析法,通过实验得出光弹性材料的应力与光学双折射效应之间的定量关系,即应力-光学定律,进而发展出的在偏振光学系统中反映物体应力分布的光学实验方法。简称光弹性法。某些光学各向同性的非晶体透明材料(如环氧树脂、聚碳酸酯等)受到力载荷后会表现出光学各向异性,并呈现出对光的双折射现象,在偏振光学系统中出现干涉条纹。当力解除后,双折射现象消失,故又称为暂时双折射(人工双折射)现象。这种透明非晶体材料称为光弹性材料。由光弹性材料制成的结构模型称为光弹性模型。光弹性法在实验原理、实验方法与技术等方面已得到了长足发展,并根据光弹性模型的受力状态和材料性质,进一步发展出光黏弹性法、光塑性法和动态光弹性法,为推动相关理论研究和数值计算方法的发展、解决工程实际问题起到了不可忽视的作用。光弹性法对于描绘复杂几何结构以及复杂载荷条件下物体的应力状态尤其有效,而且可以通过光学条纹图直观观测到全场的应力分布,是检测应力集中区域重要的实验方法。