微机电版图设计（MEMS layout design），工学-机械工程-机械工程基础-微纳与仿生机械-﹝微纳机械﹞-﹝微纳设计与仿真﹞，将微机电系统（MEMS）系统级或器件级设计结果通过版图设计工具进行图形布局布线并最终产生供制造用的版图文件或版图数据的设计过程。版图是平面结构，通常每一层加工工艺对应一层版图，因此MEMS器件版图文件一般包含多个图层，每一个图层最终加工成为光刻掩模版。光刻掩模版为普通的玻璃或石英玻璃，玻璃一面印有金属铬的几何图形。光刻掩模版制备过程类似于光刻，只不过是使用图形发生器而不是光刻机而已。早期的掩模版制备技术是先画出比实际掩模版大几百倍的总图，然后把总图覆盖到红膜上，经手工刻图、初缩照相和分步精缩等工序得到实际掩模版。随着微电子和微机电器件结构越来越复杂，手工绘图的方式不再可行，采用一定的计算机辅助制造设计绘制版图和借助程控的专业制版设备制备光刻版已成为主流。常用的版图设计工具有L-Edit软件和AutoCAD软件。