摩尔定律

这是一种半导体晶体管设计方案，也是决定半导体工艺制程的技术方案，名叫鳍式场效应晶体管，英文缩写。
这项设计的提出者为华人科学家胡正明教授，他在1998-2004年发表了一系列关于这项设计的论文，其目的是为了接替当时即将到达极限20nm的Bulk CMOS物理结构，为摩尔定律续命。
这项设计几乎是现在主流的半导体制造商普遍选择的技术方案，除了从AMD中被剥离出来的格罗方德选择了另一个替代方案，也是由胡正明教授提出的FD-SOI晶体管技术。
不过，这项半导体工艺技术的极限大概是在5-7nm，而台积电早在2020年年初就已经开始量产5nm芯片了，也就是说这种设计也已经到达了它的极限。
现在，世界的各大半导体制造公司正在将工艺技术转向另一项工艺技术，这又是后话了。

1965年Intel公司创始人之一戈登·摩尔曾提出著名的摩尔定律：当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。
数十年来这个定律一直有效，可左右它的却不是我们耳熟能详的Intel或AMD等半导体巨头，而是一家外行人并不知名光刻机设备公司。
目前全球绝大多数半导体生产厂商都需要排着队向它购买最新型的光刻机才能将自己的制程提高到最先进的水平。
一台最先进的EUV光刻机价格至少1亿欧元，而且还有市无价。
在半导体制程上，中国之所以一直落后于世界先进水平，最主要是因为西方的瓦森纳协定禁止将最先进的光刻机出口到中国。