离子掺杂（ion doping），工学-机械工程-〔机械制造工艺与装备〕-〔特种加工工艺与装备〕-高能束加工-激光加工，指为了改善某种材料或物质的性能，有目的地在这种材料或物质当中掺入少量其他元素或化合物的技术。通常掺杂元素以离子形式进入被掺杂材料。从20世纪60年代开始，人们将一定量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中，形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制；掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节。离子掺杂可分为两种：①真空离子掺杂。在真空环境中，利用辉光放电所产生的离子极高能中性粒子轰击材料表面，导致材料被加热到所需温度，使表面渗入一种或几种元素并向内部扩散，从而改变材料表层化学成分或组织，获得特殊的表面性能，如耐磨、耐蚀、抗疲劳、抗高温氧化等。②湿法离子掺杂。将需要掺杂的元素制成熔盐，将需处理的工件浸入其中作为阴极，通电后，离子在电场的作用下进入工件，实现掺杂。一般情况下还需要对熔盐加热。离子掺杂的过程是非热平衡过程，用这种方法可以获得用一般冶金和化工方法无法得到的新材料。