离子清洗机，又名等离子清洗机，是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面。1、离子清洗机不分处理对象的基材类型，均可进行处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。2、容易采用数控技术，自动化离子清洗机的清洗原理 无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面。 离子清洗机的清洗特点 1、离子清洗机不分处理对象的基材类型，均可进行处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。2、容易采用数控技术，自动化程度高。3、具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高。4、正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证。5、在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。 离子清洗机的清洗分类及性能 离子清洗机主要通过反应类型和激发频率两个方面来分类。反应类型分类等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面终被真空泵吸走。物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点：本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性。缺点：对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。化学反应为主的等离子体清洗的优点：清洗速度较高、选择性好、对清除