光刻材料

光刻材料是指光刻工艺中用到的增粘材料、抗反射涂层、光刻胶、化学溶剂和显影液，还包括193nm浸没式光刻中用到的抗水涂层。光刻材料都被安装在匀胶显影机上，根据工艺流程的安排，旋涂或喷淋在晶圆上。光刻材料中，最主要的是光刻胶，它是一种光敏感的聚合物。在一定波长的光照下，光子激发材料中的光化学反应，改变其在显影液中的溶解度。抗反射涂层被涂覆在光刻胶底部或顶部，吸收或抵消来自晶圆衬底的反射光，消除驻波效应。化学溶剂可以用于清洗晶圆边缘和背面，使之洁净，不污染机台。