定向自组装光刻技术（directed self-assembly lithography technology; DSA），工学-电子科学与技术-集成电路-集成电路工艺-光刻技术，集成电路制造中，运用材料内部的自然机制来产生有序结构进而强化光刻的技术。在这些材料内部的自然机制中，如在高分子材料中形成的条纹状结构，可通过改变化学成分来适当地调整，使其实现纳米级功能，进而能被用来强化光学和极紫外（extreme ultraviolet，EUV）光刻。嵌段共聚物定向自组装光刻技术采用化学性质不同的两种单体聚合而成的嵌段共聚物作为原材料，在热退火下分相形成纳米尺度的图形，再通过一定的方法将图形诱导成为规则化的纳米线或纳米孔阵列，从而形成刻蚀模板进行纳米结构的制造。与其他一些技术相比，DSA因为无须光源和掩模版，具有低成本、高分辨率、高产率的优势，正逐渐得到研究者的广泛关注。整体而言，DSA有助于减少最终印刷结构的间距。此外，DSA也能用于修复缺陷和修复原有印刷，使其更加均匀。在结合EUV光刻技术后，这种修复功能便显得更加有用处，因为它能在关键尺寸中由局部变异加以表征。