抗蚀工艺用化学品（resist chemical），工学-化工-化工新材料-高端专用化学品-电子化学品-印刷电路板用化学品，在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料的化学品。电路板制作中的光刻技术中所用的抗蚀剂分为光致抗蚀剂和电子抗蚀剂两类。①光致抗蚀剂，对波长较长的照射光（如紫外光等）敏感的抗蚀剂，简称光刻胶，光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。光蚀剂分为正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂两大类。正性光致抗蚀剂受光照部分发生降解反应而能被显影液溶解，留下的非曝光部分的图形与掩模版一致。正性光致抗蚀剂具有分辨率高、对驻波效应不敏感、曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点，适合于高集成度器件的生产。负性光致抗蚀剂受光照部分产生交联反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，获得的图形与掩模版图形互补。负性光致抗蚀剂的附着力强、灵敏度高、显影条件要求不严，适于低集成度的器件的生产。②电子抗蚀剂，用于电子束曝光的一种抗蚀剂，属于高分子聚合物，对波长较短的照射光（如电子束、离子束、X射线和远紫外光）等敏感。其性能类似于光学曝光中的光致抗蚀剂，即辐照可使其产生化学或物理变化而形成图形。