蘸笔纳米刻蚀技术（dip pen nanolithography），理学-化学-物理化学-纳米物理化学-蘸笔纳米刻蚀技术，美国西北大学的C.A.米尔金[注]小组和Nanoink公司开发的基于原子力显微镜的纳米刻蚀技术。通过对被转移材料或物质的精确控制，蘸笔纳米刻蚀技术可以在衬底表面构造出任意的纳米结构。随着纳米技术的发展，蘸笔纳米刻蚀技术逐渐发展为一种操作简单的纳米刻蚀技术。在一个完整的蘸笔纳米刻蚀技术过程中，特殊设计并与基底有化学作用的墨水分子被吸附到原子力显微镜的针尖上，通过凝结在针尖与基底间水滴的毛细管作用和表面张力，逐渐转移到基底表面上以实现纳米模板的可控制备（见图），具体过程包括：①针尖对墨水分子的吸附；②针尖与基底间形成弯月形液桥；③墨水分子在液桥中传输至基底；④墨水分子在基底表面的扩散。整个过程受温度、湿度、针尖和扫描速率等多种因素影响。蘸笔纳米刻蚀技术加工原理示意图在原始蘸笔纳米刻蚀技术模型的基础上，人们又发展了电化学蘸笔刻蚀技术，并设计压印探针以满足不同需求，以及蘸笔纳米刻蚀复合加工及多探针加工技术。