离子清洗（ion cleaning），工学-机械工程-〔机械制造工艺与装备〕-〔特种加工工艺与装备〕-高能束加工-激光加工，利用离子源发射出的具有一定能量的离子束对基底表面进行轰击，利用离子的活性和能量，去除基底表面的污染物和吸附物质，获得清洁表面的技术。离子清洗的机理之一是离子与材料表面污染物的碰撞作用，经过碰撞，吸附在材料表面的污染物被溅射离开表面；二是离子与污染物的化学作用，如果采用氧离子，高热能的离子会使污染物分子被氧化，使其易于被离子碰撞而离开材料表面。在真空镀膜中，利用离子清洗可以有效改善镀膜质量。沉积前，先用离子束轰击基片，溅射掉基底表面的污染物，进行净化，同时也对基底表面除气。因基底表面物理吸附气体分子的吸附能为0.1～0.5电子伏，化学吸附的吸附能为l～8电子伏，因此选择恰当的离子能量对基底表面进行轰击，入射离子就能使表面吸附物质解吸，使基底表面清洁。离子清洗被认为是一种很好的清洗方法。但要注意，高能离子会对基片表面产生溅射，因此应选择合适的离子能量。