离子轰击（ion bombardment），工学-机械工程-〔机械制造工艺与装备〕-〔特种加工工艺与装备〕-高能束加工-激光加工，使中性原子电离，通过引出电场和加速电场的作用，产生具有一定能量的带电粒子束，入射到材料的表面或进入材料内部，达到离子清洗、溅射、镀膜、离子注入等不同要求的技术。根据离子能量的不同，可以获得不同的效果。离子轰击可以在材料表面沉积薄膜时用于清洗基底表面，可以用于离子束刻蚀或溅射镀膜，也可穿过表面进入材料内部实现改性。在几十电子伏到几百电子伏范围内为离子束沉积区；1千～5千电子伏为离子束刻蚀区；1兆～30兆电子伏为离子注入区。随着离子束增强薄膜沉积技术的发展和等离子体浸没离子注入的发展，这些界限变得模糊起来。在等离子体中，几十电子伏能量的正离子也能起到注入作用。具体介绍如下。①离子清洗。在沉积薄膜前，利用能量较低的离子束对基底表面进行轰击，可以对基底表面化学清洗后残留的污染物实现进一步清洗，改善成膜质量，提高薄膜与基底的附着力。离子清洗具有不污染环境和清洗能力强等优点。②离子束辅助沉积。在沉积薄膜的同时利用能量较低的离子对基底表面进行离子轰击。