低压化学气相沉积
(半导体相关)
LPCVD的全名是LowPressureChemicalVaporDeposition,即低压化学气相沉积。这是一种沉积方法。在IC制程中,主要在生成氮化硅,复晶二氧化硅及非晶硅等不同材料。
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