光刻系统

（科学仪器）
光刻系统是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2005年10月1日启用。用于半导体器件的光刻工艺。精度为1微米。是各种高性能半导体光电子和微电子器件制备所必须的工艺设备。
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