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失配终端 （电子学名词）
失配终端（mismatched termination）是1993年公布的电子学
保密指令 （电子学名词）
保密指令（secret command）是1993年公布的电子学名词。
压电音叉 （电子学名词）
压电音叉（piezoelectric tuning fork）是1993年公布的
定向传声器 （电子学名词）
定向传声器（directional microphone）是1993年公布的电子
手术室监护仪 （电子学名词）
手术室监护仪（operational room monitor）是1993年公布
气态源扩散 （电子学名词）
气态源扩散（gas source diffusion）是1993年公布的电子学名
有限冲激响应 （电子学名词）
有限冲激响应（finite impulse response）是1993年公布的
焦平面阵列 （电子学名词）
焦平面阵列（focal plane array）是1993年公布的电子学名词。
鉴频 （电器电子）
鉴频，汉语词汇，意思是从调频波中再现调制信号的过程。
接地平面 （电子学名词）
接地平面（ground plane）是1993年公布的电子学名词。
主观信息 （电子学名词）
主观信息（subjective information）是1993年公布的电子学
电子扫描 （电子学名词）
电子扫描（electronic scanning）是1993年公布的电子学名词。
黏附概率 （电子学名词）
黏附概率（sticking probability）是1993年公布的电子学名词
分子泻流 （电子学名词）
分子泻流（molecular effusion）是1993年公布的电子学名词，出
中频通信 （电子学名词）
中频通信（MF communication）是1993年公布的电子学名词，出自《
耦合探针 （电子学名词）
耦合探针（coupling probe）是1993年公布的电子学名词。
出境链路 （电子学名词）
出境链路（outbound link）是1993年公布的电子学名词。
目标噪声 （电子学名词）
目标噪声（target noise）是1993年公布的电子学名词。
截尾检查 （电子学名词）
截尾检查（curtailed inspection）是1993年公布的电子学名词
导管电极 （电子学名词）
导管电极（catheter electrode）是1993年公布的电子学名词。
距离噪声 （电子学名词）
距离噪声（range noise）是1993年公布的电子学名词。
化学液相淀积 （电子学名词）
化学液相淀积是1993年全国科学技术名词审定委员会公布的电子学名词。
化学汽相淀积 （电子学名词）
化学汽相淀积是1993年全国科学技术名词审定委员会公布的电子学名词。
静止图像广播 （电子学名词）
静止图像广播（still picture broadcasting）是1993年
目标散射矩阵 （电子学名词）
目标散射矩阵（target scattering matrix）是1993年公布
自淬灭计数器 （电子学名词）
自淬灭计数器（self-quenched counter）是1993年公布的电子
应力感生缺陷 （电子学名词）
应力感生缺陷（stress-induced defect）是1993年公布的电子
圆[形]波导 （电子学名词）
圆波导（circular waveguide）是1993年公布的电子学名词。
终点监测 （电子学名词）
终点监测（endpoint monitoring）是1993年公布的电子学名词。
原型滤波器 （电子学名词）
原型滤波器是1993年全国科学技术名词审定委员会公布的电子学名词。
偏转系数 （电子学名词）
偏转系数（deflection coefficient）是1993年公布的电子学
固有品质因数 （电子学名词）
固有品质因数是1993年全国科学技术名词审定委员会公布的电子学名词。《电子学名词
数字用户线滤波器 （电子学名词）
数字用户线滤波器（digital subscriber filter）是1993
上边带 （电子学名词）
上边带（upper sideband）是1993年公布的电子学名词，出自《电子学
磁头 （其他科学相关）
磁头指的是通过磁性原理读取磁性介质上数据的部件。常见的磁头包括硬盘磁头，磁带录音
分布发射式正交场放大管 （电子学名词）
分布发射式正交场放大管是1993年全国科学技术名词审定委员会公布的电子学名词。
载波频移 （电子学名词）
载波频移（carrier frequency shift）是1993年公布的电子
比值计 （电子学名词）
比值计（ratio meter）是1993年公布的电子学名词。
薄膜[集成]电路 （电子学名词）
薄膜电路（thin film [integrated] circuit）是199
二氧化硅乳胶抛光 （电子学名词）
二氧化硅乳胶抛光（silica colloidal polishing）是199